温度对磁控溅射氮化钛薄膜光学性能的影响

• 作者: 史新伟 姚宁 安子风 宋开兰 崔立斌 王新昌
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: TiN 薄膜 能量过滤磁控溅射 光学性能
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 分类号: TB34|TG174.444
• 语种: 中文

摘要

本文采用能量过滤磁控溅射技术(Energy Filter Direct Magnetron Sputtering,EFDMS),通过改变沉积温度在玻璃衬底上制备了一系列TiN薄膜.利用XRD进行了物相鉴定,使用分光光度计、椭圆偏振光谱仪和四探针电阻仪测试了TiN薄膜的光学性能.结果表明:制备的TiN薄膜为多晶态立方结构TiN,且随着衬底温度的升高,薄膜结晶性提高,在近红外区的反射率显著上升,可见光区的透光率有所下降,同时,薄膜的禁带宽度变宽,折射率减小,消光系数升高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	122	692	12.0	18.0
2	王新昌	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	30	79	4.0	7.0
3	史新伟	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	28	177	7.0	12.0
4	宋开兰	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	10	13	2.0	3.0
5	崔立斌	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	2	3	1.0	1.0
6	安子风	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	1	3	1.0	1.0