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摘要:
分析了单片数字移相器的移相原理,详细介绍了每一个基本移相位的设计方法及结构,基于GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)工艺技术设计并制作了一款超宽带6 bit数字移相器.采用ADS Momentum微波设计环境进行了电路仿真,在中国电子科技集团公司第十三研究所的GaAs工艺线上进行了工艺流片并进行了在片测试.测试结果表明,6 bit数控移相器在工作频率为8 ~ 12 GHz时,主要移相态的均方根相位误差(RMS)值小于2.0°,回波损耗小于-11 dB,插入损耗为8.0~9.5 dB,插损波动为-0.5 ~0.8 dB,控制电压为-5 V/0 V.6 bit数字移相器的电路尺寸为4.1 mm×1.5 mm,并行输入控制信号,其有效工作带宽达到了40%.
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文献信息
篇名 一款超宽带GaAs单片数字移相器
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 超宽带 砷化镓 单片微波集成电路(MMIC) 数字移相器 均方根误差(RMS)
年,卷(期) 2013,(11) 所属期刊栏目 半导体集成电路
研究方向 页码范围 807-811
页数 分类号 TN43|TN623
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353x.2013.11.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王凯 中国电子科技集团公司第十三研究所 36 31 4.0 4.0
2 赵瑞华 中国电子科技集团公司第十三研究所 14 39 3.0 5.0
3 陈娜 电子科技大学物理电子学院 10 16 3.0 4.0
4 甄建宇 电子科技大学物理电子学院 3 8 1.0 2.0
8 韩玉鹏 中国电子科技集团公司第十三研究所 2 2 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
超宽带
砷化镓
单片微波集成电路(MMIC)
数字移相器
均方根误差(RMS)
研究起点
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研究分支
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半导体技术
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