UV-B辐射增强及种植密度对大麦生长发育的影响

• 作者: 娄运生 朱婷婷 黄岩
• 来源期刊: 江苏农业学报
• 学科: 农学
• 关键词: UV-B辐射 种植密度 大麦 生长发育
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 遗传育种·耕作栽培·生理生化
• 页码范围: 254-260
• 页数: 7页
• 分类号: S161.1
• 字数: 5829字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-4440.2013.02.004

摘要

在大田条件下研究了不同UV-B辐射强度及种植密度对大麦生长发育的影响.UV-B辐射强度设4个水平,即对照(自然光)、E1(比对照增强10％)、E2(比对照增强20％)和E3(比对照增强30％)；种植密度(播种量)设3个水平,即D1(5.56 g/m2)、D2(11.11g/m2)和D3(16.67g/m2).结果表明,UV-B辐射增强明显抑制大麦生长,使植株变矮,绿叶面积和干物质量下降,且辐射越强,抑制作用越明显,但抑制程度随生育期而异.在自然光下,增大种植密度可使株高增加,绿叶面积和干物质量下降；UV-B辐射增强20％处理下,增大种植密度可减轻UV-B辐射增强对大麦生长的抑制作用.在UV-B辐射增强条件下,适当提高大麦种植密度,可降低UV-B辐射增强对大麦生长的不利影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	娄运生	南京信息工程大学应用气象学院	24	139	7.0	10.0
2	黄岩		16	33	4.0	5.0