CVD金刚石大单晶外延生长及高技术应用前景

• 作者: 刘杰 吕反修 唐伟忠 宋建华 李成明 陈广超 黑立富
• 来源期刊: 热处理
• 学科: 化学
• 关键词: 金刚石大单晶 化学气相沉积( CVD) 外延生长 高技术应用
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-11,12
• 页数: 12页
• 分类号: O635.1|O484.1
• 字数: 10030字
• 语种: 中文

摘要

CVD（化学气相沉积）金刚石大单晶生长是CVD金刚石膜研究领域在过去十余年中所取得的重大技术进展之一，在一系列高新技术领域有极其重要的应用前景。针对CVD金刚石大单晶的制备和应用进行了综述。首先对CVD金刚石大单晶生长技术进行了概括性的描述，然后对CVD金刚石单晶制备方法进行详细介绍和评述。并对CVD大单晶在高性能辐射（粒子）探测器、金刚石高温半导体器件、高压物理试验、超精密加工以及在首饰钻戒等方面的应用现状与前景进行了介绍与评述。最后针对CVD高仿钻戒与天然钻戒的鉴别进行了评述，并提出了新的建议。