电沉积法制备加速器生产64Cu的镍靶

• 作者: 乔来成 刘玉平 李光 梁积新 沈亦佳 邓雪松 陈玉清
• 来源期刊: 同位素
• 学科: 工学
• 关键词: 64Cu Ni靶 电沉积法 加速器
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 放射性同位素、放射源的制备及应用技术
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: TL92
• 字数: 2595字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/tws.2013.26.01.0038

摘要

为制备加速器生产64Cu辐照用Ni靶,采用电沉积法研究了电沉积过程中影响Ni靶层质量和质量厚度的主要因素,确定了Ni靶制备工艺条件和参数,为Ni浓度40～50 g/L,盐酸浓度0.05～0.5 mol/L,电沉积温度20～50℃,搅拌器旋转速度150～350 r/min,电流密度10～35 mA/cm2.在此工艺条件下制备出的Ni靶件表面光滑、平整,靶层致密、牢固,可应用于回旋加速器生产64Cu.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁积新		5	20	3.0	4.0
2	陈玉清		7	13	2.0	3.0
3	李光		7	12	2.0	3.0
4	邓雪松		4	8	2.0	2.0
5	乔来成		3	9	2.0	3.0
6	沈亦佳		3	8	2.0	2.0
7	刘玉平		3	8	2.0	2.0