沉淀法制备高比表面积SiO2的工艺研究

• 作者: 刘瑞聪 刘碧华 林康英 汤培平 游淳毅
• 来源期刊: 厦门大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: SiO2 高比表面积 沉淀法
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 页码范围: 75-80
• 页数: 6页
• 分类号: TQ420.6|O612.4
• 字数: 4091字
• 语种: 中文

摘要

以Na2SiO3·9H2O、H2SO4为原料,沉淀法路线合成高比表面积SiO2.实验考察了反应温度、H2SO4溶液浓度、Na2SiO3溶液浓度、反应终点pH值、表面活性剂添加量、后处理试剂、干燥方式等因素对SiO2比表面积的影响.采用BET低温液氮吸附比表面分析仪、热重分析仪、场发射扫描电镜、激光粒度分析仪、傅里叶变换红外光谱仪等分析仪器对SiO2样品进行表征.结果表明,在c(H2SO4)=1.5 mol/L、w(Na2SiO3)=6.3％、反应温度t=60℃、pH值为5,用正丁醇置换水等实验条件下,可制得SiO2粉末比表面积为841 m2/g,相较于一般沉淀SiO2300～400 m2/g的比表面积有明显提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤培平	厦门大学化学化工学院	19	136	8.0	11.0
2	刘瑞聪	厦门大学化学化工学院	5	28	4.0	5.0
3	刘碧华	厦门大学化学化工学院	5	31	4.0	5.0
4	林康英	厦门大学化学化工学院	5	31	4.0	5.0
5	游淳毅	厦门大学化学化工学院	5	31	4.0	5.0