多晶硅还原炉内主要残留物及清理工艺

• 作者: 周万礼
• 来源期刊: 云南化工
• 学科: 工学
• 关键词: 还原炉 残留物 清理工艺 多晶硅
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 经验交流
• 页码范围: 77-79
• 页数: 3页
• 分类号: TQ127.2
• 字数: 2000字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-275X.2013.05.019

摘要

多晶硅产品质量要求较高,在生产中还原炉每运行一个周期,其内表面都会残留有Si等污垢.经分析研究可采用氢氧化钠溶液作为清洗液,并根据残留物分布情况对还原炉基盘和钟罩分别采用特定的清理工艺进行处理,能够满足高纯多晶硅生产洁净要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周万礼		3	8	2.0	2.0