基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
文章研究了AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的质子辐照效应。在3MeV质子辐照下,采用三种不同辐照剂量6×1014,4×1014和1×1015 protons/cm2。在最高辐照剂量下,漏极饱和电流下降了20%,最大跨导降低了5%。随着剂量增加,阈值电压向正向漂移,栅泄露电流增加。 AlGaN/GaN HEMT电学特性的退化主要是由辐照引入的位移损伤引起的。从SRIM软件计算出空位密度,将Ga空位对应的能级引入Silvaco器件仿真软件中,仿真结果与实验结果相匹配。 Hall测试结果显示二维电子气(2DEG)浓度和迁移率在辐照后有所降低。
推荐文章
0.5μm栅长HfO2栅介质的GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管
高电子迁移率晶体管
氮化镓
栅电流
射频特性
3MeV质子辐照对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管的影响
质子辐照
AlGaN/GaN
HEMT
SRIM
空位密度
不同基区掺杂浓度NPN双极晶体管电离辐照效应
NPN双极晶体管
60Coγ辐照
基区掺杂浓度
低剂量率辐照损伤增强效应
新型双异质结高电子迁移率晶体管的电流崩塌效应研究
双异质结高电子迁移率晶体管
电流崩塌
热电子效应
自加热效应
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 GaN基高电子迁移率晶体管的质子辐照效应研究
来源期刊 空间电子技术 学科
关键词 质子辐照 氮化镓高电子迁移率晶体管 Ga空位 二维电子气
年,卷(期) 2013,(3) 所属期刊栏目 空间能量传输专题
研究方向 页码范围 33-38
页数 6页 分类号
字数 3352字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-7135.2013.03.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吕玲 宽带隙半导体技术国家重点学科实验室西安电子科技大学微电子学院 1 5 1.0 1.0
2 林志宇 宽带隙半导体技术国家重点学科实验室西安电子科技大学微电子学院 1 5 1.0 1.0
3 张进成 宽带隙半导体技术国家重点学科实验室西安电子科技大学微电子学院 1 5 1.0 1.0
4 马晓华 宽带隙半导体技术国家重点学科实验室西安电子科技大学微电子学院 1 5 1.0 1.0
5 郝跃 宽带隙半导体技术国家重点学科实验室西安电子科技大学微电子学院 1 5 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (17)
节点文献
引证文献  (5)
同被引文献  (7)
二级引证文献  (3)
1997(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2000(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2001(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2002(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
2003(4)
  • 参考文献(4)
  • 二级参考文献(0)
2004(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
2005(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2007(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2008(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2013(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2014(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2018(4)
  • 引证文献(3)
  • 二级引证文献(1)
2019(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2020(2)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
质子辐照
氮化镓高电子迁移率晶体管
Ga空位
二维电子气
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
空间电子技术
双月刊
1674-7135
61-1420/TN
大16开
西安市165信箱
1971
chi
出版文献量(篇)
1737
总下载数(次)
9
总被引数(次)
6261
论文1v1指导