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Increase in Generation of Poly-Crystalline Silicon by Atmospheric Pressure Plasma-Assisted Excimer Laser Annealing
Increase in Generation of Poly-Crystalline Silicon by Atmospheric Pressure Plasma-Assisted Excimer Laser Annealing
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摘要：
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文献信息
| 篇名 | Increase in Generation of Poly-Crystalline Silicon by Atmospheric Pressure Plasma-Assisted Excimer Laser Annealing | ||
| 来源期刊 | 材料科学与工程：中英文B版 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 等离子体辅助 准分子雷射 激光退火 多晶硅 常压 生成效率 激光传播 协同作用 | ||
| 年，卷（期） | clkxygczy-b_2013,（6） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 346-351 | |
| 页数 | 6页 | 分类号 | O484.1 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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生成效率
激光传播
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期刊影响力
材料科学与工程：中英文B版
主办单位：
美国大卫出版公司
出版周期：
双月刊
ISSN：
2161-6221
CN：
开本：
出版地：
武汉洪山区卓刀泉北路金桥花园C座4楼
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
570
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