应用于导电墨水的纳米铜胶体的研制

• 作者: 聂昆深 黄钧声
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: 导电墨水 纳米铜 化学还原法 表面活性剂 CTAB PVP
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 37-41
• 页数: 5页
• 分类号: O648.16
• 语种: 中文

摘要

以硼氢化钾(KBH4)为还原剂、硫酸铜(CuSO4·5H2O)为前驱体,乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)为络合剂,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为反应场表面活性剂,KOH为pH值调节剂,制备纳米铜胶体.对影响纳米铜胶体粒径以及分散稳定性的因素进行了研究,结果表明:当CTAB,KOH,EDTA-2Na的用量分别为0.22,1.5,0.3～0.4 mol/L时,纳米铜胶体的粒子粒径为30 nm左右,胶体的分散稳定性较好；用该化学还原法可制备出最小粒径为1.09 nm的纯净纳米铜.在聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的保护下,可有效防止纳米铜粉末氧化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄钧声	广东工业大学材料与能源学院	38	362	8.0	18.0
2	聂昆深	广东工业大学材料与能源学院	1	2	1.0	1.0