气相沉积TiAlN薄膜及其性能分析

• 作者: 刘志远 潘全喜
• 来源期刊: 热处理技术与装备
• 关键词: 磁控溅射 TiAlN 结合力
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 性能研究
• 页码范围: 27-30
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

利用非平衡磁控溅射离子镀设备,在轴承钢和硬质合金表面沉积TiAlN薄膜,并对薄膜结构和主要性能进行了分析.所镀薄膜厚度可超过3 μm,薄膜的生长比较好,形成了细化的柱状晶粒.经断口扫描分析发现薄膜与基体的结合比较牢固,结合力可达41 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘志远	郑州职业技术学院电气电子工程系	16	28	4.0	4.0
2	潘全喜	郑州职业技术学院电气电子工程系	17	23	3.0	4.0