磁控溅射NbSiN复合膜的微结构和性能

• 作者: 喻利花 苑彩云 许俊华
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: NbSiN 磁控溅射 微结构 力学性能 摩擦磨损性能
• 年，卷（期）: 2013,（7）
• 所属期刊栏目: 材料与工艺
• 页码范围: 35-39
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2013.07.007

摘要

用磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的NbSiN复合薄膜.采用色散能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪表征复合膜的成分、微结构、力学性能以及室温和高温摩擦磨损性能.实验结果表明:NbSiN复合膜中只存在面心立方NbN结构,且呈(200)择优取向；Si的加入使复合膜硬度得到提高,Si含量为20.29％(原子分数)时硬度达到最大值32.1GPa,随着Si含量的进一步增加,复合膜的硬度逐步降低.室温和高温摩擦磨损实验结果表明,在室温时,NbSiN复合膜的平均摩擦因数在0.60～0.68之间,波动不大；而在650℃时,随着Si含量的增加,复合膜的平均摩擦因数从0.57降至0.42;650℃时的平均摩擦因数低于室温下的平均摩擦因数与氧化物的生成有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许俊华	江苏科技大学江苏省先进焊接技术重点实验室	60	269	9.0	13.0
2	喻利花	江苏科技大学江苏省先进焊接技术重点实验室	58	246	8.0	12.0
3	苑彩云	江苏科技大学江苏省先进焊接技术重点实验室	1	7	1.0	1.0