铁氧体-硅双层基片微带线的谱域导抗法分析

• 作者: 吕坤颐 郑雨薇
• 来源期刊: 电子质量
• 学科: 工学
• 关键词: 微带 铁氧体 谱域导抗法 色散
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 理论与研究
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TN61
• 字数: 1710字
• 语种: 中文

摘要

该文提出两种铁氧体-硅双层基片的微带线结构,并通过对麦克斯韦方程的坐标旋转和傅里叶变换导出波导纳,用谱域导抗法进行特性分析.尤其是对微带线的色散特性进行了计算,讨论了微带线各种参数对色散特性的影响,并对它们的特性进行了对比,发现其中一种结构的色散受各因素的影响很小,尤其是介质的工艺尺度,可用于更高集成电路的制造中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕坤颐	重庆邮电大学光电工程学院	2	2	1.0	1.0
2	郑雨薇	重庆邮电大学光电工程学院	3	15	2.0	3.0