直流磁过滤电弧源沉积氧化铝薄膜的研究

• 作者: 刘哲 弥谦 王昆
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧源 磁过滤 氧化铝薄膜 氧气分量 阴极靶电流
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 78-80,100
• 分类号: TG174.444|O484.4
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁过滤电弧源技术,在K9玻璃基底上制备氧化铝薄膜,研究了沉积时的氧气分量和阴极靶电流对薄膜折射率、沉积速率、消光系数和表面粗糙度的影响.结果表明:薄膜折射率、沉积速率和消光系数均随着氧气分量的增加而降低,随着阴极靶电流的升高而增加；薄膜表面粗糙度则随氧气分量或阴极靶电流的增加,呈先减小、后增大的趋势.分析认为,主要是因为随着氧气分量和阴极靶电流的变化,基底表面铝原子和氧气的比例发生了改变,进而影响到薄膜的相关性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	弥谦	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	60	260	9.0	14.0
2	刘哲	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	3	3	1.0	1.0
3	王昆	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	13	16	2.0	3.0