CMP浆料SiO2水溶胶纯化稳定性技术的研究

• 作者: 刘玉岭 张超 甘小伟
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硅溶胶 离子交换 Na+ pH值 Zeta电位
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 112-117
• 分类号: TN305.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2013.02.010

摘要

介绍了CMP浆料SiO2水溶胶的Na+含量过高对集成电路可靠性的影响,讨论了硅溶胶纯化制备过程中容易凝胶的不稳定现象.中试实验中,采用阳离子交换的方法,去除Na+等金属离子.改变SiO2水溶胶pH值,测量其Zeta电位,得到最稳定SiO2水溶胶pH值在10左右.分析一次阳离子交换和两次阳离子交换过程,得到Na+浓度、pH值和Zeta电位变化规律.加入有机碱调节pH值,并起到螯合金属离子的作用.最后得到Na+浓度为1×10-6～2×10-6 mol/L、pH值在10～10.5、Zeta电位在-40～-45mV的稳定碱性硅溶胶.为碱性CMP浆料SiO2水溶胶工业化纯化制备生产提供了理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学微电子研究所	263	1540	17.0	22.0
2	甘小伟	河北工业大学微电子研究所	6	16	3.0	3.0
3	张超	河北工业大学微电子研究所	25	114	6.0	10.0