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离子门
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 Veeco离子源结构原理、应用与维修
来源期刊 混合微电子技术 学科 工学
关键词 离子束刻蚀 Veeco离子源 离子源保养维修 真空
年,卷(期) hhwdzjs,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 56-60
页数 5页 分类号 TN305
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 胡国兵 中国电子科技集团公司第四十三研究所 4 2 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
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同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2013(0)
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研究主题发展历程
节点文献
离子束刻蚀
Veeco离子源
离子源保养维修
真空
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
混合微电子技术
季刊
安徽省合肥市6068信箱(合肥市绩溪路260号)
出版文献量(篇)
1458
总下载数(次)
46
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