工作气压对溅射沉积铜铟镓硒薄膜形态和光学性能的影响

• 作者: 张志国 李德军 董磊 贾涛
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 铜铟镓硒(CIGS)薄膜 射频磁控溅射 薄膜形貌 光学性能 透光率 工作气压
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1|O484.4
• 字数: 2917字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法,通过直接溅射铜铟镓硒四元合金靶在镀有Mo背电极的soda-lime玻璃衬底上获得铜铟镓硒(CIGS)薄膜.利用X线衍射(X-ray diffraction,XRD)、扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)和X线能量色散谱仪(energy dispersive X-ray spectroscopy,EDS)研究薄膜的结构、表面形貌和组织成分的变化,并通过紫外-可见分光光度计(ultraviolet and visible spectrophotometer,UV/VIS)获得薄膜的透过率光谱,研究不同工作气压对CIGS薄膜晶体结构、表面形貌和光学性能的影响.实验结果表明:在工作气压为0.8 Pa时制得的薄膜表面均匀致密,可见光范围内透光率接近于零,nCu/nIn+Ca=0.83,nGa/nIn+Ga=0.3,nSe/nCu+In+Ga=1,证明溅射所得CIGS吸收层薄膜的性能接近高效吸收层的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
2	董磊	天津师范大学物理与电子信息学院	17	30	3.0	4.0
3	贾涛	天津师范大学物理与电子信息学院	1	1	1.0	1.0
4	张志国	天津师范大学物理与电子信息学院	1	1	1.0	1.0