工作气压对直流磁控溅射Mo薄膜的影响

• 作者: 万小波 徐导进 易泰民 曹德峰 杨蒙生 楼建设 王昆黍 邢丕峰 郑凤成
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: Mo薄膜 直流磁控溅射 工作气压 晶粒尺寸 微观应力
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 71-74
• 分类号: TG174.444|O484
• 语种: 中文

摘要

利用直流磁控溅射技术在单晶Si(110)基底上制备Mo薄膜,分析了工作气压对沉积速率、表面质量及微观结构的影响.结果表明:薄膜的沉积速率随压强的增大而增加；低气压下沉积的Mo薄膜表面质量较好且结构致密,高气压下沉积的Mo薄膜表面质量较差且结构疏松；在工作气压为0.8Pa时,制备的Mo薄膜晶粒尺寸与微观应力值最小.