溅射功率对氧化铝薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 刘春伟 唐晓红 杜姗 王丽格 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化铝薄膜 射频磁控溅射 晶体结构 光学性能 溅射功率 折射率 消光系数
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 39-42
• 页数: 4页
• 分类号: O434.13|O484.4+1
• 字数: 2456字
• 语种: 中文

摘要

采用射频反应磁控溅射法,在K9双面抛光玻璃基底上制备了一系列不同溅射功率的Al2O3薄膜,并对部分薄膜进行退火处理.利用X线衍射法对Al2O3薄膜退火前后的晶体结构进行分析,采用椭圆偏振光谱仪对薄膜的厚度、折射率和消光系数进行测试和拟合.实验结果表明:测射功率在100～300 W时,沉积的Al2O3薄膜退火前后均为非晶态；薄膜在可见光范围内具有良好的透光性能,透射率接近90％,为透明膜；薄膜的沉积速率随溅射功率的增大而增大；薄膜在可见光波段的折射率n随波长的增大而减小,平均值随溅射功率的增大呈现出先增大后减小的变化趋势；薄膜消光系数k的平均值亦随溅射功率的增大呈现先增大后减小的变化趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
2	王丽格	天津师范大学物理与电子信息学院	8	60	4.0	7.0
3	杜姗	天津师范大学物理与电子信息学院	7	15	3.0	3.0
4	刘春伟	天津师范大学物理与电子信息学院	5	12	2.0	3.0
5	唐晓红	天津师范大学物理与电子信息学院	5	12	2.0	3.0