内嵌金属富勒烯Gd@C82在Cu(111)和Pt(111)表面吸附结构的STM研究

• 作者: 卢双赞 曹更玉 秦志辉 陈建
• 来源期刊: 电子显微学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属富勒烯 扫描隧道显微镜 吸附结构
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 331-336
• 页数: 6页
• 分类号: TB383|TG115.21+5.7|TN16
• 字数: 3591字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.1000-6281.2013.04.010

摘要

利用扫描隧道显微镜(STM)研究分析了内嵌金属富勒烯分子Gd@C82在Cu(111)和Pt(111)上的低温(200 ～250 K)生长方式和吸附结构.不同强弱的分子-衬底间相互作用导致Gd@C82在Cu(111)和Pt(111)上的生长方式有很大区别.经过热处理后,Gd@C82分子诱导Cu(111)衬底发生重构,而在Pt(111)上未发现此现象.两种金属衬底不同的晶格常数和电子性质导致退火后的分子自组装结构也不一样:Gd@C82在Cu(111)上形成等价的两种吸附结构,即(√19 × √19)R23.4°和(√19×√19) R36.6°；分子在Pt(111)上形成一种与<1(1)0>方向一致的密堆积结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	秦志辉	中国科学院武汉物理与数学研究所波谱与原子分子物理国家重点实验室	3	3	1.0	1.0
2	陈建	中国科学院武汉物理与数学研究所波谱与原子分子物理国家重点实验室	17	47	4.0	6.0
6	曹更玉	中国科学院武汉物理与数学研究所波谱与原子分子物理国家重点实验室	6	30	1.0	5.0
7	卢双赞	中国科学院武汉物理与数学研究所波谱与原子分子物理国家重点实验室	2	0	0.0	0.0