氮化硅陶瓷球双平面抛光技术

• 作者: 冯凯萍 吕冰海 袁巨龙 邓乾发
• 来源期刊: 轴承
• 学科: 工学
• 关键词: 滚动轴承 氮化硅陶瓷球 抛光 双平面式
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺与装备
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: TH133.3|TH161.1
• 字数: 2690字
• 语种: 中文

摘要

为了获得氮化硅陶瓷球超光滑表面,提出了一种新的球体双平面抛光方法,通过球体在上下软质盘面之间不断的自旋和滚动实现球面的抛光,从而减小传统铸铁磨盘抛光方法对陶瓷球表面造成的机械损伤.通过试验研究了抛光速度、抛光压力和水基CeO2抛光液浓度对氮化硅陶瓷球表面粗糙度Ra和球形误差△RSW的影响,并给出了优选的抛光工艺参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁巨龙	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	116	1467	19.0	35.0
2	邓乾发	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	29	152	7.0	10.0
3	吕冰海	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	51	710	11.0	26.0
4	冯凯萍	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	1	5	1.0	1.0