钙化处理引入电脉冲对NiTi形状记忆合金表面钙磷层的影响

• 作者: 方红 曹力生 赵作福
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: NiTi形状记忆合金 羟基磷灰石膜层 化学处理 电脉冲
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 56-59
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

采用纯化学处理的方法,在NiTi形状记忆合金表面沉积羟基磷灰石膜层,探讨了在钙化初期引入电脉冲对膜层的影响,分析了钙化液组分浓度以及脉冲参数对膜层生长的响应规律.结果表明:含Ca2+3.10mmol/L,K+ 4.64 mmoL/L,Na+ 126.8 mmol/L,C1-144.5 mmol/L及HPO42-1.86 mmol/L,且呈弱碱性的钙化液最适合钙磷层的生长,采用此钙化液,经适当处理后,试样表面生成了疏松、多孔的钙磷层,经检测,钙磷层为羟基磷灰石和其它钙磷盐的混合物；电脉冲的引入可在一定程度上加速钙磷层的沉积,并提高羟基磷灰石膜的纯度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方红		11	23	3.0	4.0
2	赵作福		11	30	4.0	5.0
3	曹力生		5	13	1.0	3.0