焦平面红外成像设备非均匀性校正残差分析

• 作者: 刘连伟 杨淼淼 樊宏杰 王敏 许振领 邹前进
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 红外成像 非均匀性 校正方法 校正残差
• 年，卷（期）: 2013,（7）
• 页码范围: 409-413
• 页数: 5页
• 分类号: TN215
• 字数: 4059字
• 语种: 中文

摘要

非均匀性是焦平面红外成像设备的固有特性，影响成像质量。介绍了非均匀性产生的原因、校正方法及校正残差的描述方法。从理论上分析计算了不同校正方法的校正残差及其变化规律。并针对某VOx非制冷热像仪实测图像数据计算了不同校正方法、不同温度下的校正残差大小，得出在使用单点校正方法测量时尽量将校正温度点选在测量对象温度（等效黑体温度）分布的中间位置及使用两点校正时校正温度尽量设置在测量对象温度区域（等效黑体温度）两侧的结论。