PLD法制备NiO薄膜及结构和形貌的研究

• 作者: 何晓雄 梁金 梁齐 汪礼柱
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: NiO薄膜 脉冲激光沉积(PLD) 结构 形貌
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.2|O484
• 语种: 中文

摘要

利用脉冲激光沉积法(PLD)在Si衬底上制备NiO薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对所制备薄膜的晶体结构和表面形貌进行表征分析,研究衬底温度和脉冲激光能量对NiO薄膜结构和形貌的影响,得到生长质量较高、择优取向的多晶NiO薄膜的一种最佳制备条件.制备了p-NiO/n-Si异质结器件,Ⅰ-Ⅴ特性测试表明,器件具有良好的整流特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何晓雄	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	65	317	10.0	13.0
2	梁齐	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	47	197	7.0	10.0
3	汪礼柱	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	1	0	0.0	0.0
4	梁金	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	5	8	1.0	2.0