磁控溅射Y2O3种子层对Gd2Zr2O7厚度效应的影响

• 作者: 刘志勇 范峰 蔡传兵 赵荣 邱文彬 鲁玉明
• 来源期刊: 低温物理学报
• 关键词: 磁控溅射 种子层 Y2O3 涂层导体 YBCO
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 333-338
• 页数: 6页
• 语种: 中文

摘要

本文研究反应磁控溅射法在双轴织构Ni-5at.％W (NiW)金属基底上动态外延生长Y2O3和Gd2Zr2O7(GZO)及其对后续氧化物和超导层织构的影响.证实了动态磁控溅射Y2O3是十分有效的种子层材料.X射线衍射θ～2θ扫描以及极图测试表明Y2O3种子层能在较宽的参数窗口很好地在NiW基底上外延生长.通过扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表面形貌观察,显示Y2O3薄膜表面平整,粗糙度在1.5nm左右.进一步在Y2O3上外延生长GZO缓冲层,研究了其厚度效应及其对后续YBa2Cu3O7-((YBCO)超导层的影响,通过对比分析它们面内半高宽以及超导转变温度Tc和△Tc变化规律,得出GZO的优化厚度为120nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡传兵		34	94	5.0	9.0
2	刘志勇		25	75	3.0	8.0
3	鲁玉明		27	88	4.0	9.0
4	赵荣		3	19	1.0	3.0
5	邱文彬		3	0	0.0	0.0
6	范峰		9	14	2.0	3.0