基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
双成像光刻技术是在集成电路制造工艺不断缩小时解决光刻后图形失真问题和提高准确度的最有效的方案之一.在双成像光刻中,需要进行版图分解,将版图中多边形分解为更简单的图形的集合.现有的多边形分解算法不适合应用于双成像光刻,会产生工艺无法接受的薄片,覆盖误差会导致图形断开,与双成像光刻中的版图分解的目标也不同.提出了一种新的版图分解算法,通过引入交叠,消除薄片的产生,同时解决由于覆盖误差引起的图形断开问题;减少分解后的矩形数目,从而减少双成像光刻中颜色分配后的冲突总数,适合用于双成像光刻技术.实验说明该算法有效.
推荐文章
一种超深亚微米下IC光刻透射成像的快速算法
超深亚微米
光刻
光学邻近效应
主波
卷积核
经验模态分解的一种改进算法
经验模态分解
改进算法
采样频率
故障诊断
一种用于胸腔监测的电阻抗成像系统
电阻抗成像
胸腔监测
多频信号源
一种用于ADSL中改进的LMS算法
非对称用户环路
最小均方误差算法
自适应滤波器
回波抵消
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 一种用于双成像光刻中的版图分解算法
来源期刊 复旦学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 双成像光刻技术 版图分解算法 引入交叠
年,卷(期) 2013,(1) 所属期刊栏目 信息科学
研究方向 页码范围 129-138
页数 分类号 TN47|TP311
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陆伟成 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 14 31 3.0 4.0
2 魏晗一 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 2 2 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (10)
共引文献  (0)
参考文献  (9)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1983(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1987(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1988(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1990(3)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(2)
1996(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1997(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2000(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2003(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2005(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2008(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
2009(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2010(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2011(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2013(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
双成像光刻技术
版图分解算法
引入交叠
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
复旦学报(自然科学版)
双月刊
0427-7104
31-1330/N
16开
上海市邯郸路220号
4-193
1955
chi
出版文献量(篇)
2978
总下载数(次)
5
论文1v1指导