直流磁控溅射中磁场强度和阴极电压对圆平面靶刻蚀形貌的影响

• 作者: 常亮 张以忱 李建军 韩晶雪 黄英
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 刻蚀形貌 模拟 圆平面靶 磁场强度 阴极电压
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 70-73
• 页数: 4页
• 分类号: TB79
• 语种: 中文

摘要

本文借助Comsol和Matlab软件模拟了直流磁控溅射圆平面靶系统的磁场分布和荷电粒子分布,对不同磁场强度和阴极电压条件下的荷电粒子分布进行了模拟分析,通过比较靶面离子流密度分布曲线发现:当磁场强度增强时,靶面离子流密度分布曲线会变得更加陡窄;当阴极电压变化时,靶面离子流密度分布曲线几乎没有变化.说明靶材的刻蚀形貌会随磁场强度增强而变窄,而阴极电压变化对靶材的刻蚀形貌没有影响.上述结论对直流磁控溅射工艺参数优化具有一定的理论指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张以忱	东北大学机械工程与自动化学院	153	408	11.0	16.0
2	黄英	东北大学机械工程与自动化学院	26	293	11.0	16.0
3	李建军	东北大学机械工程与自动化学院	6	34	4.0	5.0
4	韩晶雪	东北大学机械工程与自动化学院	3	24	3.0	3.0
5	常亮	东北大学机械工程与自动化学院	4	48	3.0	4.0