表面印迹磁性壳聚糖对水溶液中钍离子的吸附行为

• 作者: Shi Jeffrey 梁喜珍 陈中胜 黄国林
• 来源期刊: 江苏大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 表面印迹磁性壳聚糖 钍 吸附容量 等温式 动力学
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 356-360
• 页数: 5页
• 分类号: TQ424.3
• 字数: 3496字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7775.2013.03.021

摘要

以壳聚糖为原料,纳米Fe3O4为磁性核心,钍离子为模板剂,环氧氯丙烷为交联剂合成表面印迹磁性壳聚糖(SI-MC).红外光谱和X射线能谱分析表明:钍成功地被吸附在SI-MC上.研究吸附剂用量、溶液pH值及振荡时间对吸附过程的影响,得到最佳工艺条件.吸附数据用Langmuir等温式拟合优于Freundlich等温式,最大吸附容量为95.2 mg· g-1.与拟一级动力学模型相比,拟二级动力学模型能更好地拟合本吸附过程.吸附在SI-MC上的钍,可采用1 mol·L-1的H2SO4溶液进行有效回收处理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄国林	东华理工大学放射性地质与勘探技术国防重点学科实验室	58	561	14.0	20.0
2	梁喜珍	东华理工大学放射性地质与勘探技术国防重点学科实验室	22	225	10.0	14.0
3	陈中胜	东华理工大学放射性地质与勘探技术国防重点学科实验室	27	175	9.0	12.0