光刻工艺中金属层划片槽幻影的产生和解决方案

• 作者: 周敏祺
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻工艺改善 金属层划片槽 幻影缺陷改善
• 年，卷（期）: 2013,（7）
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1246字
• 语种: 中文

摘要

在光刻工艺中的显影步骤，显影液在溶解光刻胶的过程中，不同区域光刻胶的溶解速度存在着明显的差异，使得晶圆表面的显影反应存有时间差别。这种反应速率上的差别在实际的生产过程中会产生一些缺陷。金属层划片槽的幻影现象是该类缺陷的一种表现形式。如何去控制这些缺陷的产生，对于提高生产线良率将会显得很重要。文章针对光刻工艺中无钛-氮化钛膜层覆盖的金属层划片槽出现的幻影，分析并提出了产生该现象的机制，与此同时提出了几种解决该现象的方案。

作者信息

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1	周敏祺		1	0	0.0	0.0