奥乐V护牙剂对早期釉质龋再矿化作用的研究

• 作者: 刘源 杨燃 邹静 隋小玲
• 来源期刊: 华西口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 奥乐V护牙剂 早期釉质龋 再矿化
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 141-144,149
• 页数: 5页
• 分类号: R781.1
• 字数: 3998字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7518/hxkq.2013.02.007

摘要

目的 观察奥乐V护牙剂对早期釉质龋的再矿化作用.方法 将50个牛牙釉质块建立人工龋模型后随机分为5组:奥乐V护牙剂组、GC护牙素组、氟化钠(NaF)组、奥乐V护牙剂+NaF组、去离子水(DDW)组,分别进入pH循环模型.采用显微硬度计测定各组标本脱矿前和pH循环后的釉质表面硬度值,扫描电镜观察各组再矿化后釉质表面形态结构的改变.结果 各实验组经再矿化处理后其表面显微硬度均明显提高(P＜0.001),奥乐V护牙剂组再矿化后其表面显微硬度低于NaF组(P＜0.001),但与GC护牙素组间差异无统计学意义(P＞0.05)；再矿化后奥乐V护牙剂组釉质表面有较大颗粒沉积.结论 奥乐V护牙剂具有促早期人工釉质龋再矿化的作用.