用于分离CH4/CO2疏水性SiO2膜的制备

• 作者: 张兵 张志刚 李文秀 葛珂宁 陈立峰
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 溶胶-凝胶法 疏水性 无开裂 分离因子 努森扩散
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺
• 页码范围: 78-82
• 页数: 5页
• 分类号: TQ325|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2013.02.016

摘要

分别采用KH-570,KH-560和A-151代替部分TEOS作为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了疏水性SiO2气体分离膜,利用IR,BET,TG,SEM以及接触角测试仪等对其进行了表征,并对(0.8KH-570)SiO2膜进行了CH4/CO2气体渗透性能评价.结果表明,当A-151,KH-570和KH-560与TEOS的摩尔比均为0.8时,膜的接触角分别从28.6°增大到97.8,94.2°和90.7°.膜样品的疏水性增强,修饰后的膜孔径分布更加狭窄,平均孔径减小,抵抗水蒸汽的能力明显增强；膜层无开裂,表面完整.其中,KH-570修饰的膜性能较好,在n(KH-570)/n(TEOS)=0.8时,压力为30kPa的条件下,(0.8KH-570)SiO2膜对CH4/CO2的分离因子为2.13,大于纯SiO2膜的分离因子(1.58)和努森扩散理论的分离因子(1.67),分离效果较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文秀	沈阳化工大学化学工程学院	118	421	9.0	12.0
2	张志刚	沈阳化工大学化学工程学院	87	295	9.0	12.0
3	张兵	沈阳化工大学化学工程学院	6	30	3.0	5.0
4	陈立峰	沈阳化工大学化学工程学院	12	45	5.0	6.0
5	葛珂宁	沈阳化工大学化学工程学院	1	1	1.0	1.0