靶膜对中子管中子产额的影响分析

• 作者: 丁柱 崔杰 王志全 郤方华 陈路
• 来源期刊: 测井技术
• 关键词: 中子管 靶膜材料 镀膜工艺 靶膜厚度 中子产额
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 28-30
• 页数: 3页
• 分类号: TE257.1
• 语种: 中文

摘要

分析影响中子管中子产额的3个方面因素.靶膜材料选用单质金属钛或锆,要求纯度达到99.99％,纯度越高单位面积内吸附氚气越多,氘氚核反应的概率就越大.除单质金属靶膜材料外,还可以选用Ti-Mo合金替代单质金属靶材料；靶膜镀制工艺是保证靶膜质量的关键,要保证镀膜的本底真空度高于10-4 Pa,氩气的纯度达到99.99％,同时镀靶膜时给靶基加以400℃高温和200 V直流偏压,以增加靶膜的附着力,最大限度地保护靶面不被氧化；靶膜厚度选择在1.0～1.5mg/cm2之间较为合适,既能保证氘氚核反应在有效深度范围内核反应概率达到最大,又不浪费氘氚气体.因此只有选择高纯度的靶膜材料、良好的靶膜镀制工艺和合理的靶膜厚度,中子管才能输出高的中子产额.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁柱		10	12	2.0	3.0
2	郤方华		3	5	2.0	2.0
3	王志全		4	9	2.0	3.0
4	陈路		3	6	2.0	2.0
5	崔杰		2	4	2.0	2.0