偏压对类石墨非晶碳膜结构和机械性能的影响

• 作者: 张学谦 柯培玲 汪爱英 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射 类石墨非晶碳膜 基底偏压 微观结构 摩擦性能 机械性能
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 页码范围: 29-33
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.45
• 字数: 3919字
• 语种: 中文

摘要

采用高功率脉冲磁控溅射法在Si和高速钢基底上制备类石墨(Graphite-like carbon,GLC)非晶碳膜,研究了基底偏压对薄膜微观结构、机械性能和摩擦学性能的影响.结果表明:随着基底偏压的增大,GLC薄膜sp2键含量先减小后增大,在基底偏压为-100V时达到最小值；薄膜的硬度和弹性模量先增大后减小,表面粗糙度先减小后增大；GLC薄膜的摩擦学性能与其机械性能和表面粗糙度密切相关,在基底偏压为-100 V时,薄膜的平均摩擦系数最小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪爱英	中国科学院宁波材料技术与工程研究所表面工程事业部	33	206	9.0	13.0
2	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
3	柯培玲	中国科学院宁波材料技术与工程研究所表面工程事业部	22	149	7.0	11.0
4	张学谦	天津师范大学物理与电子信息学院	4	17	2.0	4.0