硅外延及其应用

• 作者: 吴忠元 徐远志 胡亮
• 来源期刊: 云南冶金
• 学科: 工学
• 关键词: MBE CVD LPE 硅外延 应用
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 金属材料与加工
• 页码范围: 46-50
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.1+2
• 字数: 6025字
• 语种: 中文

摘要

介绍了硅外延生长技术,综述了应用于硅外延的分子束外延(MBE)、化学气相沉积(CVD)、液相沉积(LPE)三种工艺,并介绍了Si基外延材料器件的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡亮	昆明理工大学化学工程学院	35	450	10.0	20.0
2	徐远志		8	73	5.0	8.0
6	吴忠元	昆明理工大学化学工程学院	3	19	3.0	3.0