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摘要:
采用常温直流磁控溅射法在廉价201无镍不锈钢表面沉积了纯钛薄膜.通过XRD和SEM分析了201上钛薄膜的结构和形态受沉积条件的影响.结果表明,在溅射功率为78.4 W时钛薄膜由紧密排列的柱状晶构成,但功率过大薄膜反而疏松.多种工艺参数下,钛薄膜具有高度的择优取向,但其择优取向的晶面并不固定.XRD结果还表明:由于钛原子的渗入,基底会发生较严重的晶格畸变.并探讨了以沉积量表征膜厚的可能性及工艺参数对薄膜沉积量的影响.
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文献信息
篇名 201无镍不锈钢溅射沉积金属钛膜研究
来源期刊 有色金属科学与工程 学科 工学
关键词 201无镍不锈钢 磁控溅射 钛薄膜 择优取向 沉积量
年,卷(期) 2013,(4) 所属期刊栏目 【冶金?材料】
研究方向 页码范围 23-28
页数 6页 分类号 TF764|TG146.23
字数 4432字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 蓝德均 攀枝花学院生物与化学工程学院 28 33 4.0 5.0
2 黄双华 攀枝花学院土木与建筑工程学院 44 188 7.0 12.0
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磁控溅射
钛薄膜
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期刊影响力
有色金属科学与工程
双月刊
1674-9669
36-1131/TF
大16开
江西省赣州市红旗大道86号
1987
chi
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