三氯氢硅除硼工艺研究进展

• 作者: 卢海波 朱晓云
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 高纯SiHCl3 硼杂质 提纯 氯硅烷
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: TQ127.2
• 字数: 4541字
• 语种: 中文

摘要

重点介绍了目前去除SiHCl3中硼杂质的先进方法,主要有萃取法、络合物法、吸附法、部分水解法和精馏法,并展望了后续SiHC13的除硼工艺,指出应将不同的提纯工艺优化结合,建立严格科学的痕量杂质全过程技术管理控制体系,进一步优化杂质监测分析技术,才能高效、经济地去除SiHC13中的杂质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱晓云	昆明理工大学材料科学与工程学院	63	794	16.0	25.0
2	卢海波	昆明理工大学材料科学与工程学院	1	4	1.0	1.0