铈基、硅基半导体抛光液的发展概况

• 作者: 张忠义 张立业 慕利娟 赵增祺
• 来源期刊: 稀土
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 CeO2抛光液 SiO2抛光液
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 68-73
• 页数: 6页
• 分类号: TG580.692
• 语种: 中文

摘要

介绍了化学机械抛光液的研究进展和抛光原理,分析了化学机械抛光过程中抛光液的重要作用,阐述了配制化学机械抛光液的两种方法,分析了影响铈基抛光液和硅基抛光液抛光性能的诸多因素.最后指出了抛光液回收再利用的重要性和可行性.