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电子束蒸发工艺中源飞溅的控制
电子束蒸发工艺中源飞溅的控制
作者:
张益平
李云海
章文
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
背面金属化
电子束
源飞溅
摘要:
采用电子束蒸发进行的背面金属化工艺中遇到的较为常见的问题,就是在蒸发过程中发生的蒸发源飞溅状况。这是影响工艺可靠性及稳定性的重要问题,如何通过工艺控制手段减少甚至杜绝此类问题的出现对实际生产是很有指导性意义的。文中对该问题产生的原因进行分析并展开讨论,并提出了相关控制措施。
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文献信息
篇名
电子束蒸发工艺中源飞溅的控制
来源期刊
电子与封装
学科
工学
关键词
背面金属化
电子束
源飞溅
年,卷(期)
2013,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
7-9,32
页数
4页
分类号
TN305.94
字数
2711字
语种
中文
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背面金属化
电子束
源飞溅
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研究来源
研究分支
研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
主办单位:
中国电子科技集团公司第五十八研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1681-1070
CN:
32-1709/TN
开本:
大16开
出版地:
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
邮发代号:
创刊时间:
2002
语种:
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
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