沉积位置对HfC涂层微观结构的影响

• 作者: 付前刚 孙粲 李海亮 李贺军 王永杰
• 来源期刊: 固体火箭技术
• 学科: 航空航天
• 关键词: 化学气相沉积 HfC涂层 沉积位置
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 结构、材料与工艺
• 页码范围: 394-397
• 页数: 4页
• 分类号: V258
• 字数: 2899字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7673/j.issn.1006-2793.2013.03.022

摘要

为了研究沉积位置对HfC涂层微观结构的影响,采用HfCl4-C3 H6-H2反应体系,低压下在C/C复合材料表面沉积了HfC涂层.采用X射线衍射和扫描电镜等方法,分析了沉积位置对涂层的相组成、生长取向、表面形貌和沉积速率的影响.研究结果显示,在距离进气口20～ 25 cm处制备的HfC涂层具有单一成分,涂层均匀致密；随着沉积位置逐步远离进气口,反应物的过饱和度降低,涂层沉积速率降低,颗粒尺寸减小；HfC涂层生长出现择优取向,逐渐偏向(200)方向生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李贺军	西北工业大学凝固国家重点实验室	351	3778	28.0	39.0
2	付前刚	西北工业大学凝固国家重点实验室	30	198	9.0	13.0
3	孙粲	西北工业大学凝固国家重点实验室	6	74	3.0	6.0
4	王永杰	西北工业大学凝固国家重点实验室	9	53	4.0	7.0
5	李海亮	西北工业大学凝固国家重点实验室	9	24	3.0	4.0