模拟光刻中双层衰减相移接触孔衍射的理论公式

• 作者: 刘丽辉 刘克 李艳秋 杨亮
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 物理光学 光刻 法向矢量 散射矩阵 严格耦合波法 接触孔
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 物理光学
• 页码范围: 413-418
• 分类号: O436|TN214
• 语种: 中文

摘要

为了仿真光刻中接触孔掩模的衍射,建立了严格的三维(3D)掩模模型.采用法向矢量法(NV)改善了接触孔掩模耦合波方程的收敛性.利用S矩阵求解线性方程组避免了数值不稳定问题.对于双吸收层衰减相移接触孔掩模,当有效的截断级次达到1225级以上时,(0,0)级次能得到更好的收敛结果.当有效的截断级次分别为1225级,1369级,1521级及1681级时,衍射效率分别为23.64％,23.67％,23.63％及23.66％.利用建立的模型,研究了偏振态随着掩模、入射光参数的变化关系.当线宽小于25nm时,掩模主要透过TM偏振光.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋	北京理工大学光电学院	57	202	7.0	13.0
2	刘克	北京理工大学光电学院	15	6	1.0	2.0
3	杨亮	北京理工大学光电学院	7	37	3.0	6.0
4	刘丽辉	北京理工大学光电学院	7	3	1.0	1.0