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摘要:
本文介绍了下一代碳化硅(SiC)平面MOSFET、沟槽结构肖特基二极管和沟槽MOSFET器件。首先,开发了SiC平面MOSFET,可以抑制在正向电流通过时引起寄生PN结二极管的劣化;其次,开发了新型沟槽SiC肖特基二极管,与传统SiC二极管相比,在州接受的漏电流条件下,具有更低的正向压降;第三,开发了新型双沟槽结构SiC MOSFET,在保持超低导通电阻的同时.提高了器件的可靠性,其主婴原㈥在于新结构有效降低了槽栅底部的最大电场强度,抑制了栅氧的击穿。
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关键词云
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文献信息
篇名 超低导通电阻Ron的SiC沟槽器件
来源期刊 电源世界 学科 工学
关键词 SIC 超低导通电阻 沟槽结构
年,卷(期) 2013,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 37-40
页数 4页 分类号 TN389
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 殷丽(译) 1 0 0.0 0.0
2 王传敏(译) 1 0 0.0 0.0
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2013(0)
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研究主题发展历程
节点文献
SIC
超低导通电阻
沟槽结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电源世界
双月刊
1561-0349
大16开
北京市团结湖北路2号
1998
chi
出版文献量(篇)
8016
总下载数(次)
25
总被引数(次)
6309
论文1v1指导