切勿错失超摩尔定律机会窗口

• 作者: 赵佶
• 来源期刊: 半导体信息
• 学科: 经济
• 关键词: 摩尔定律 工艺制程 半导体技术 光刻技术 物理极限 失超 机会窗口 半导体业 芯片制造商 半导体设备
• 年，卷（期）: bdtxx_2013,（3）
• 页码范围: 2-5
• 页数: 4页
• 分类号: F416.63

摘要

【正】摩尔定律确实是变慢了。依照摩尔定律,全球半导体的工艺制程技术平均每2年进入一个新世代。但是从工艺微缩角度讲,所有业界人士有一个共识,即半导体迟早会遇到技术上无法克服的物理极限,无论是10 nm、7 nm,还是5 nm,极限必然存在。传统的光学光刻技术还在向细微化延伸,目前利用193 nm浸液