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HP-LEC法InP单晶生长的引晶、放肩过程研究
HP-LEC法InP单晶生长的引晶、放肩过程研究
作者:
史艳磊
孙聂枫
李晓岚
李玉茹
邵会民
黄清芳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
直径4英寸
InP单晶
平放肩
孪晶
高压液封直拉技术
摘要:
利用自制高压单晶炉内采用高压液封直拉技术(HP-LEC)研究了<100〉InP晶体生长过程中引晶和放肩阶段的控制等因素对单晶生长的影响.采用平放肩工艺进行了3~4英寸(1英寸=2.54 cm)InP单晶的生长.通过多次实验,可重复生长出直径80 ~ 110 mm、长62~112 mm的3~4英寸InP单晶锭.介绍了平放肩工艺技术特点和应用效果.经过统计和分析,认为InP晶体生长中放肩阶段的孪晶产生由多种因素造成,不存在所谓的“临界放肩角”.通过热场调整和工艺控制,可以用较低的提拉速度在较短时间内生长出3~4英寸头部;通过等径控制,可以生长出无孪晶或孪晶较少的高质量InP单晶.
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文献信息
篇名
HP-LEC法InP单晶生长的引晶、放肩过程研究
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
直径4英寸
InP单晶
平放肩
孪晶
高压液封直拉技术
年,卷(期)
2013,(11)
所属期刊栏目
半导体材料
研究方向
页码范围
840-844,850
页数
分类号
TN304
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-353x.2013.11.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李玉茹
中国电子科技集团公司第十三研究所
3
2
1.0
1.0
2
孙聂枫
8
24
3.0
4.0
3
黄清芳
1
1
1.0
1.0
4
李晓岚
1
1
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5
邵会民
1
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史艳磊
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传播情况
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引文网络
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共引文献
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同被引文献
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2013(0)
参考文献(0)
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引证文献(0)
二级引证文献(0)
2014(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
直径4英寸
InP单晶
平放肩
孪晶
高压液封直拉技术
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
总被引数(次)
24788
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