超细疏水SiO2对丁羟衬层流变性影响的研究

• 作者: 宋洪标 楼阳 詹国柱 黄洪勇
• 来源期刊: 固体火箭技术
• 学科: 航空航天
• 关键词: 丁羟衬层 超细疏水SiO2 流变性 界面粘接
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 推进剂
• 页码范围: 371-375
• 页数: 5页
• 分类号: V512
• 字数: 3954字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7673/j.issn.1006-2793.2013.03.017

摘要

采用红外光谱(FTIR)、热重分析(TGA)、光学显微镜(OM)、流变分析等方法,研究了超细疏水SiO2(UF-SiO2)的物理化学特性及对丁羟衬层流变性的影响.研究表明,超细SiO2表面经二甲基硅油处理后疏水性增强,在丁羟衬层中易分散,可形成均匀、致密的网络结构,对丁羟衬层的触变性有显著的改善效果.随UF-SiO2用量的增加,丁羟衬层的触变环面积增大,其触变性随之提高,UF-SiO2用量为0.8 ～1.6 phr时,可赋予丁羟衬层优异的工艺性能.此外,UF-SiO2用量在0～1.6 phr范围内,对丁羟衬层本体力学和界面(衬层/推进剂)粘接性能均无明显影响.