高强度聚焦超声功率源的优化设计

• 作者: 叶方伟 曾德平 杨黎 谭坚文 邓思建
• 来源期刊: 电源学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高强度聚焦超声 E类功率放大电路 Saber仿真 优化设计
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 页码范围: 46-52
• 页数: 7页
• 分类号: TN722.5
• 字数: 3319字
• 语种: 中文

摘要

高强度聚焦超声(HIFU)功率源直接影响HIFU治疗的有效性和安全性.受功率MOSFET极间电容和导通电阻等寄生参数的影响,基于E类功率放大电路的HIFU功率源实际工作特性常偏离理想条件下的理论设计值.在理论设计的基础上,结合功率MOSFET等效电路模型,采用Saber软件对HIFU功率源的E类放大电路进行仿真,得到了放大器最佳工作状态时的谐振回路参数.实验测试表明,优化后的功率源工作效率和特性有显著的提高.