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摘要:
介绍了有机硅保护剂的分类,特别是有机硅保护剂对结构中含羟基、羧基、羰基、端炔和氨基化合物的保护与脱保护的原理及应用情况,并对有机硅保护剂在高分子、有机合成和离子识别领域的应用分别做了简单综述.
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文献信息
篇名 有机硅保护剂在有机合成中的应用
来源期刊 杭州师范大学学报(自然科学版) 学科 化学
关键词 有机硅保护剂 有机合成 高分子 离子识别
年,卷(期) 2013,(4) 所属期刊栏目 有机硅专栏
研究方向 页码范围 289-296
页数 8页 分类号 O627.41
字数 3912字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-232X.2013.04.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 章连众 浙江工业大学化学工程与材料学院 9 21 3.0 4.0
2 倪勇 杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室 29 292 12.0 16.0
3 彭丽亚 浙江工业大学化学工程与材料学院 3 10 2.0 3.0
4 罗大鹏 杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室 2 6 1.0 2.0
5 刘海洪 浙江工业大学化学工程与材料学院 3 10 2.0 3.0
6 阮洋 杭州师范大学有机硅化学及材料技术教育部重点实验室 1 5 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
有机硅保护剂
有机合成
高分子
离子识别
研究起点
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研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
杭州师范大学学报(自然科学版)
双月刊
1674-232X
33-1348/N
大16开
杭州市下沙高教园区学林街16号
1979
chi
出版文献量(篇)
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