W-K 合金的正电子湮没寿命谱研究

• 作者: 唐军 安竹 朱敬军 杨力 舒小艳
• 来源期刊: 四川大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 正电子湮没谱学 W-K合金 正电子湮没寿命谱分析
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 页码范围: 1299-1304
• 页数: 6页
• 分类号: TG146.4|O572.32
• 字数: 3215字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2013.06.024

摘要

正电子湮没技术（PA T ）是一种无损的材料探测技术，它可以反映正电子所在处电子密度信息，而电子密度信息能反映材料内部微尺寸变化，正电子对于纳米尺寸缺陷的变化非常敏感。本文用正电子湮没技术中的正电子湮没寿命谱分析技术（PLAS），对W-K混合粉体在不同温度和压强条件下烧结后的微尺寸缺陷变化进行了分析，表明压强对于W-K合金的缺陷变化没有明显的影响，而W-K合金的微尺寸缺陷随温度有明显变化。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐军	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	72	416	11.0	15.0
2	安竹	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	24	49	4.0	6.0
3	杨力	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	21	91	5.0	9.0
4	朱敬军	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	10	5	1.0	1.0
5	舒小艳	四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0