硅在红外光学薄膜中的应用研究

• 作者: 王丽荣 石澎
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 硅 电子束沉积 光学薄膜
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 31-33
• 页数: 3页
• 分类号: TN213
• 语种: 中文

摘要

介绍了硅的理化特性以及在光学薄膜设计中的应用特点.对电子束沉积硅薄膜时的温度、真空度进行了确定,并对其沉积速率的稳定性以及石墨坩埚的使用方法进行了研究.利用分光光度法测定了硅膜在0.5μm～5 μm波段范围内的折射率分布曲线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽荣		26	34	3.0	5.0
2	石澎		19	12	2.0	2.0