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摘要:
为了研究锑化铟(InSb)半导体材料的光电导太赫兹辐射过程,推导了太赫兹近场辐射公式.在考虑俄歇弛豫机制对光电导过程影响的情况下,分析了InSb光生载流子浓度、载流子散射率以及光电导表面反射率随时间的变化.结果表明,数值模拟与文献中的实验曲线变化趋势一致,计算结果吻合,证明了该研究方法的正确性.
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文献信息
篇名 InSb光电导太赫兹辐射理论研究
来源期刊 激光技术 学科 物理学
关键词 激光物理 太赫兹辐射 光电导 锑化铟 俄歇弛豫
年,卷(期) 2013,(2) 所属期刊栏目 激光物理与激光器件
研究方向 页码范围 239-242
页数 4页 分类号 O431.1
字数 2654字 语种 中文
DOI 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2013.02.025
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 潘武 重庆邮电大学光电工程学院 63 272 8.0 13.0
2 李亭亭 重庆邮电大学光电工程学院 4 10 2.0 3.0
3 李国新 重庆邮电大学光电工程学院 4 10 2.0 3.0
4 黄书磷 重庆邮电大学光电工程学院 1 3 1.0 1.0
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2013(2)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2018(1)
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  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
激光物理
太赫兹辐射
光电导
锑化铟
俄歇弛豫
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研究分支
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引文网络交叉学科
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激光技术
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51-1125/TN
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