镍基电沉积制备聚8-羟基喹啉薄膜

• 作者: 刘中兴 刘小勤 曾冬铭 黄凤祥
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 镍镀层 羟基喹啉 电沉积 聚合 循环伏安法 恒电位法 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 电沉积技术
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 2465字
• 语种: 中文

摘要

采用8-羟基喹啉的碱性水溶液,分别通过循环伏安法和恒电位法在镍基体上电沉积制备了聚8-羟基喹啉薄膜.探讨了2种方法制备聚8-羟基喹啉薄膜的电化学行为,并对比研究了不同方法所得试样的表面形貌和耐蚀性.结果表明,循环伏安法电沉积聚8-羟基喹啉的氧化峰为0.563 V和0.481 V,还原峰则位于0.318 V;恒电位法电沉积聚8-羟基喹啉包含聚合物成核和长大2个过程.恒电位法所得聚8-羟基喹啉薄膜较循环伏安法所得膜更平整,耐蚀性更好.聚8-羟基喹啉薄膜增大了基体表面的电荷转移电阻,隔绝了腐蚀介质,从而有效增强了镍基体的耐蚀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾冬铭	中南大学化学化工学院	53	500	14.0	20.0
5	刘中兴		7	21	3.0	4.0
6	黄凤祥	中南大学化学化工学院	5	12	2.0	3.0
7	刘小勤	中南大学化学化工学院	5	15	3.0	3.0